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(富士康)纳米材料相转移侦测装置及方法

专 利 号:CN200510035291.9 专利类型:发明专利
所属行业:通信/电子/数码 - 电子元件 有效期限:2005-06-10 至 2025-06-10
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    专利详情

    本发明涉及一种纳米材料相转移侦测装置,其包括一真空腔,用于盛装一待测纳米流体;一加热装置,以供该纳米流体加热;一衰减全反射晶体,其包括一第一端面及一第二端面,及位于该第一端面与第二端面之间的多个侧面,该多个侧面形成有一高分子薄膜,该衰减全反射晶体位于该真空腔内及该纳米流体上方,且该第一端面及第二端面均位于该真空腔外;一光源,用于提供一光束经由该第一端面以全反射入射角入射到该衰减全反射晶体内;一光谱侦测器,用于接收由该第二端面出射的光束以侦测该纳米材料的特征吸收峰。本发明还提供一纳米材料相转移侦测方法。(纳米材料相转移侦测装置及方法 专利转让 富士康专利)注:价格为专利祼价,未包含转让官方费用

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